[发明专利]金属氢氧化物的制造方法及ITO溅射靶的制造方法无效
申请号: | 201380026827.3 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN104334771A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 藤丸笃;三村寿文;门胁丰;虫明克彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C25B1/00 | 分类号: | C25B1/00;C25B11/03;C25B11/04 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种无需进行电解液的废液处理,可得到与所需粒径一致的金属氢氧化物的高效批量生产金属氢氧化物的制造方法及ITO靶的制造方法。电解槽1内设置有层压疏水性的气体扩散层(20a)和亲水性的反应层(20b)而构成的气体扩散电极(20),以在该电解槽内分区。在朝向分区后的电解槽的反应层的沉降槽(11)内放入电解液(S),将铟(4)浸渍在电解液中。以气体扩散电极为阴极,以铟为阳极,在两电极间施加电压,且对朝向分区后的电解槽的气体扩散层的空气槽(10)内供氧并电解,使电解液中析出氢氧化铟。 | ||
搜索关键词: | 金属 氢氧化物 制造 方法 ito 溅射 | ||
【主权项】:
一种金属氢氧化物的制造方法,其特征在于:在电解槽内设置层叠疏水性的气体扩散层和亲水性的反应层而构成的气体扩散电极以将该电解槽内分区,在朝向该分区后的电解槽的反应层的部分中放入电解液,将金属材料或导电性金属氧化物浸渍在该电解液中;以气体扩散电极为阴极,以金属材料或导电性金属氧化物为阳极,在两电极间施加电压,且对朝向分区后的电解槽的气体扩散层的部分供氧并进行电解,在电解液中析出金属氢氧化物。
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