[发明专利]惰性大气压预冷及后热处理有效
| 申请号： | 201380028481.0 | 申请日： | 2013-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN104380428B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 威廉·李;史蒂夫·德拉蒙德 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/18 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 | 代理人： | 寿宁,张华辉 |
| 地址： | 美国马萨诸*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种离子注入系统(101)，该系统向置于低于环境温度夹盘(130)上的处理腔室(122)的处理环境(126)中的工件(118)提供离子(112)。具有中间环境(138)的中间腔室(136)与外部环境(132)流体连通并具有用于冷却和加热工件(118)的冷却站(140)及加热站(142)。在处理腔室(122)与中间腔室(136)之间提供装载锁定腔室(150)，以使处理环境(126)与中间环境(138)隔离。正压源(166)在中间腔室(136)内提供干气(168)，中间腔室(136)的露点低于中间腔室外部环境(132)的露点。正压源通过自中间腔室流向外部环境的干气流而使中间环境与外部环境隔离。 | ||
| 搜索关键词： | 惰性 大气压 预冷 热处理 | ||
【主权项】：
一种离子注入系统，其包括：处理腔室，其具有与其关联的处理环境；离子注入设备，其配置成向位于所述处理腔室中的工件提供多个离子；低于环境温度的夹盘，其配置成在所述工件暴露于所述多个离子期间在所述处理腔室内支撑所述工件，其中该低于环境温度的夹盘进一步配置成将所述工件冷却至处理温度；中间腔室，其具有与其关联的中间环境，其中该中间腔室与外部环境流体连通，其中该中间腔室包括配置成将所述工件冷却至第一温度的冷却站以及配置成将所述工件加热至第二温度的加热站；装载锁定腔室，其可耦接至所述处理腔室及所述中间腔室，其中该装载锁定腔室配置成使所述处理环境与所述中间环境隔离，其中该装载锁定腔室包括配置成在所述处理腔室与所述中间腔室之间传送所述工件期间支撑所述工件的工件支撑件；以及正压源，其配置成向所述中间腔室提供干气，其中该干气的露点低于所述外部环境的露点，其中该正压源通过自所述中间腔室流向所述外部环境的干气流使所述中间环境与所述外部环境隔离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾克塞利斯科技公司，未经艾克塞利斯科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380028481.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
