[发明专利]正性光敏材料有效
| 申请号： | 201380029778.9 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104380198B | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 刘卫宏;卢炳宏;陈春伟;S.迈耶;M·A·托克西;S·赖 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料卢森堡有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 卢森堡卢森堡L-*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： |
本发明涉及新颖的正性工作光敏组合物，其具有：至少一种光致产酸剂；至少一种酚醛清漆聚合物；至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构，其中R1‑R5独立地为‑H或‑CH3，A为直链或支链C1‑C10亚烷基，B为C1‑C12烷基或脂环族基团，D为连接基，该连接基可以是化学键、其中羰基碳键接至聚合物主链的羧酸酯基团、或其中羰基碳键接至聚合物主链的‑COOCH2‑基团，Ar为取代或未取代的芳族基团或杂芳族基团，E为直链或支链C2‑C10亚烷基，G为酸可裂解基团。本发明进一步涉及使用该新型组合物以形成图像的方法。 |
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| 搜索关键词： | 光敏 材料 | ||
【主权项】：
1.正性工作光敏组合物，包含：a)至少一种光致产酸剂；b)至少一种酚醛清漆聚合物，其包含一种或多种选自邻甲酚、对甲酚或间甲酚的甲酚重复单元；c)至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物由下式的结构组成：![]()
其中R1‑R5独立地为‑H、F或‑CH3，A为亚乙基或1,2‑亚丙基，B为C1‑C12烷基或脂环族基团，D为其中羰基碳键接至聚合物主链的‑COOCH2‑基团或‑COO‑基团，且Ar为苯基，E为直链或支链C2‑C10亚烷基，G为酸可裂解基团，v为0摩尔％‑10摩尔％，w为7摩尔％‑15摩尔％，x为14摩尔％‑80摩尔％，y为25摩尔％‑35摩尔％且z为20摩尔％‑50摩尔％。
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