[发明专利]用于阻碍露珠形成的纳米二氧化硅涂层在审
| 申请号： | 201380029961.9 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN104769023A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 景乃勇;克里斯蒂安·施特雷拉特;迈克尔·约斯特 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08K3/36;C09D1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;金小芳 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及二氧化硅纳米颗粒涂层以及位于其上具有二氧化硅纳米颗粒涂层的制品，例如具体地回射装置。本公开还涉及用于阻碍在制品表面上形成露珠的方法，所述制品具体地为包括回射支撑体的制品。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 阻碍 露珠 形成 纳米 二氧化硅 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种用于阻碍在包括回射支撑体的制品的表面上形成露珠的方法，所述方法包括：提供基材，所述基材包括用底涂层组合物处理而形成的涂底漆的表面，所述底涂层组合物包含2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、(3-缩水甘油氧基丙基)三乙氧基硅烷、氨基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基硅烷、二烷氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、四烷氧基硅烷、或它们的组合；使所述基材的所述涂底漆的表面的至少一部分与二氧化硅纳米颗粒涂层组合物接触，所述二氧化硅纳米颗粒涂层组合物包含：具有40纳米或更小的平均粒径的二氧化硅纳米颗粒与具有大于40纳米的平均粒径的二氧化硅纳米颗粒的混合物的含水分散体，所述含水分散体具有小于5的pH，和具有小于5的pKa的酸；干燥所述涂层组合物，从而在所述基材上提供二氧化硅纳米颗粒涂层，并由此形成涂层组件；以及将所述涂层组件施加在所述回射支撑体的至少一部分上。
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