[发明专利]溅射装置和溅射成膜方法

摘要

溅射装置具备具有磁铁的3个靶，磁铁(7a、7b、7c)的每一个被控制成进行从顺方向的行程端向逆方向移动后停止的第1移动、从第1移动后的停止位置移动到逆方向的逆方向的行程端后停止的第2移动、和从逆方向的行程端移动到顺方向的行程端后停止的第3移动。并且，成膜时被控制成，第1移动的期间形成于基板的第1膜、第2移动的期间形成于基板的第2膜、和第3移动的期间形成于基板的第3膜由各不相同的靶(4a、4b、4c)成膜，而且第1、第2、第3膜在基板上重叠。

主权项

一种溅射装置，其特征在于，该溅射装置具备：真空容器；基板搬送部，用于在上述真空容器内搬送基板；至少3个靶保持部，为了保持用于对由上述基板搬送部所搬送的上述基板依次地进行成膜的靶，沿上述基板的搬送方向排列；磁铁部，被配置在各自的上述靶保持部的背侧；磁铁驱动部，驱动上述磁铁部；以及控制部，控制上述基板搬送部和上述磁铁驱动部，使得在上述靶保持部保持上述靶并进行成膜时，各自的上述磁铁部以规定周期执行从上述搬送方向的行程端向与上述搬送方向逆方向移动并停止在第1规定位置的第1移动、在上述第1移动后从上述第1规定位置向上述逆方向移动并停止在第2规定位置的第2移动、和从上述逆方向的行程端向上述搬送方向移动并停止在上述搬送方向的行程端的第3移动，并且，在上述第1、第2、第3移动的每一个中，上述基板相对于上述磁铁部在上述搬送方向上相对地移动的距离相等。