[发明专利]用于制造硬盘基片的方法在审
| 申请号： | 201380030518.3 | 申请日： | 2013-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN104350542A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 石田元;迎展彰;吉田隆广 | 申请（专利权）人： | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 高瑜;郑霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由本发明解决的问题是获得一种可以具有通过NiP化学镀的镀膜的平滑表面并且不具有对酸溶液恶化的抗腐蚀性的硬盘基片。用于制造本发明的硬盘基片的方法是用于制造具有NiP化学镀镀膜的硬盘基片的方法，所述方法包括：将基片浸泡在包含具有平整作用的添加剂的第一NiP化学镀镀液中，从而在基片的表面上形成NiP化学镀镀膜的下层，该下层具有比表面更小的平均表面粗糙度；和将具有通过第一覆镀步骤在其上形成的NiP化学镀镀膜的下层的基片浸泡在第二NiP化学镀镀液中，从而形成NiP化学镀镀膜的上层，该上层对酸溶液具有抗腐蚀性并且具有大于或等于4μm的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 硬盘 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造硬盘基片的方法，所述硬盘基片具有NiP化学镀镀膜，所述方法包括：第一覆镀步骤，将基片浸泡在包含具有平整作用的添加剂的第一NiP化学镀镀液中，从而在所述基片的表面上形成所述NiP化学镀镀膜的下层，所述下层具有比所述表面更小的平均表面粗糙度；以及第二覆镀步骤，将具有通过所述第一覆镀步骤在其上形成的所述NiP化学镀镀膜的所述下层的所述基片浸泡在第二NiP化学镀镀液中，从而形成所述NiP化学镀镀膜的上层，所述上层对酸溶液具有抗腐蚀性并且具有大于或等于4μm的厚度。
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