[发明专利]亲水性的改性丙烯酸树脂膜有效
| 申请号： | 201380030594.4 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN104364302B | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 冈崎光树 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;C08J7/16 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 杨宏军,牛蔚然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供防雾性、防污性优异、透明性也优异的亲水性的改性丙烯酸树脂膜。本发明的改性丙烯酸树脂膜是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的，所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 亲水性 改性 丙烯酸 树脂 | ||
【主权项】：
一种改性丙烯酸树脂膜，其是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的，所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团。
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