[发明专利]自清洁光学系统有效
申请号: | 201380031313.7 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN104428654B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | F.奥赖利;K.费伊;P.谢里登 | 申请(专利权)人: | 都柏林大学;爱尔兰都柏林国立大学 |
主分类号: | G01N21/15 | 分类号: | G01N21/15;G02B27/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 吴俊 |
地址: | 爱尔兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于向处理区域透射光和/或从处理区域反射光的自清洁光学系统,包括液池和透射或反射光学部件,该光学部件可绕非竖直轴线持续转动,从而其下部持续转动穿过液池。当所述光学部件从液池中出来时,在该光学部件上会残留液体覆层,该液体覆层在所述光学部件的至少一部分处形成基本均匀的薄膜,光透过该薄膜,或者从该薄膜反射。 | ||
搜索关键词: | 清洁 光学系统 | ||
【主权项】:
一种包括自清洁光学系统和具有处理区域的室的系统,自清洁光学系统用于向所述处理区域透射光(22)和/或从所述处理区域反射光(22),该自清洁光学系统包括容纳液体的池子(16)、透射或反射光学部件(10)和操作连接于所述光学部件、用于绕非竖直轴线(14)持续转动所述光学部件(10)的装置,在使用中,所述光学部件的下部持续转动穿过容纳于所述池子中的液体,从而当所述光学部件从池子中出来时,在该光学部件上会残留液体覆层(20),该液体覆层在所述光学部件的至少一部分(Q2)处形成基本均匀的透明薄膜,光透过该透明薄膜,或者从所述光学部件的至少一部分被向回反射而穿过该透明薄膜。
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