[发明专利]具有光源的调制阵列的射束图案投影器有效
| 申请号： | 201380031715.7 | 申请日： | 2013-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN104395817B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·L·霍尔曼;马修·B·桑普塞尔 | 申请（专利权）人： | 追踪有限公司 |
| 主分类号： | F21V5/04 | 分类号： | F21V5/04;F21S41/141;F21S41/663;F21V7/00;F21S41/32;G02B19/00;G02B27/14;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于包含光源(102)的调制阵列的射束图案投射装置(100)的系统、方法及设备。在一个方面中，所述射束图案投射装置(100)可包含透镜(120)。光源(102)的所述阵列可经定位而使得其输出平面在沿着光轴远离所述透镜实质上一个焦距处。光源(102)的所述阵列的所述输出可为可控制的以产生在多个可能射束图案(450)之外的可调整射束图案，每一射束图案与光源的所述阵列中的每一光源的功率级别相关联。所述装置(100)可将光源(102)的所述阵列所产生的所述可调整射束图案投射在一距离处。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 光源 调制 阵列 图案 投影 | ||
【主权项】：
1.一种射束图案投射装置，其包括：透镜，所述透镜具有焦距及光轴；及光源的第一阵列，其具有定位于沿着所述光轴在制造公差内远离所述透镜一个焦距的输出平面，使得来自光源的所述第一阵列的所述输出平面上的每一点的光通过所述透镜来准直，光源的所述第一阵列的输出是可控制的以产生出于第一多个可能射束图案的第一可调整射束图案，所述第一多个可能射束图案中的每一者与光源的所述第一阵列中的每一光源的功率级别相关联，其中所述射束图案投射装置经配置以将光源的所述第一阵列所产生的所述第一可调整射束图案投射在一距离处。
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