[发明专利]溅射靶在审
| 申请号： | 201380031894.4 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN104379801A | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | 池田祐希 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种溅射靶，其包含含有Co的金属基质相和6～25摩尔％的形成粒子并分散存在的氧化物的相(以下称为“氧化物相”)，其特征在于，XRD的单峰中最高峰的积分宽度为0.7以下。本发明提供可以抑制溅射时初期粉粒的产生并缩短预烧时间，并且在溅射时可以得到稳定的放电的非磁性材料粒子分散型溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，其包含含有Co的金属基质相和6～25摩尔％的形成粒子并分散存在的氧化物的相(以下称为“氧化物相”)，其特征在于，XRD的单峰中最高峰的积分宽度为0.7以下。
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