[发明专利]图案形成方法以及用于该方法的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物

摘要

本发明的图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影。RN‑A‑X+ (I)

主权项

1.一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影，RN‑A‑X+  (I)在通式(I)中，RN表示含有至少一个氮原子的单价碱性化合物残基；RN‑A‑由以下所示的通式(II)表示：在通式(II)中，Q表示连接基团；Rx1和Rx2各自独立地表示氢原子或有机基团，Rx1和Rx2中的至少一个表示被至少一个氟原子取代的烷基；Rx1、Rx2和Q中的2个以上可以彼此结合以与同它们结合的氮原子一起形成环。通式(I)和通式(II)中的A‑各自独立地表示以下所示的通式(a‑1)至(a‑3)中的任何一个；Ar表示芳基或者杂芳基；Rf1和Rf2各自独立地表示氟原子或被至少一个氟原子取代的烷基；Rf3表示被至少一个氟原子取代的烷基；X1和X2各自独立地表示‑CO‑或‑SO2‑；X+表示抗衡阳离子；*表示与RN的结合位点；RN‑CH3的LogP值是1.2以上至4.0以下。