[发明专利]制备半导体层的方法在审

专利信息
申请号: 201380032455.5 申请日: 2013-06-17
公开(公告)号: CN104508847A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: C·纽萨姆 申请(专利权)人: 剑桥显示技术有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/05
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 王海宁
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种制备有机电子器件的半导体层方法,该方法包括:(i)从包含聚合物半导体、非聚合物半导体、第一芳族溶剂和第二芳族溶剂的溶液沉积所述半导体层,其中所述第二芳族溶剂的沸点比所述第一芳族溶剂的沸点高至少15℃;和(ii)加热所述沉积的层以蒸发所述溶剂,其中所述第一芳族溶剂具有式(I):其中R1选自C1-6烷基和OC1-6烷基;和R2和R3各自独立地选自H和CC1-6烷基。
搜索关键词: 制备 半导体 方法
【主权项】:
一种制备有机电子器件的半导体层的方法,该方法包括:(i)从包含聚合物半导体、非聚合物半导体、第一芳族溶剂和第二芳族溶剂的溶液沉积所述半导体层,其中所述第二芳族溶剂的沸点比所述第一芳族溶剂的沸点高至少15℃;和(ii)加热所述沉积的层以蒸发所述溶剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于剑桥显示技术有限公司;,未经剑桥显示技术有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380032455.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top