[发明专利]静电耗散可激光雕刻膜无效
申请号: | 201380032694.0 | 申请日: | 2013-03-14 |
公开(公告)号: | CN104395092A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 克里斯托弗·K·哈斯;保罗·F·耶格尔;威廉·M·拉曼纳;格雷戈里·J·马尔沙韦克;克里斯塔尔·K·亨特 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;金小芳 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种可激光雕刻膜。在一个方面,本发明的可激光雕刻膜包括单层膜,其优选地包含聚碳酸酯并具有混合在所述聚碳酸酯层内的激光雕刻添加剂和防静电组合物。在另一方面,本发明的可激光雕刻膜包括第一层和第二层,所述第一层优选地包含聚碳酸酯并具有混合在所述第一层内的防静电组合物,所述第二层优选地包含聚碳酸酯并具有混合在所述第二层内的激光雕刻添加剂。 | ||
搜索关键词: | 静电 耗散 激光雕刻 | ||
【主权项】:
一种可激光雕刻膜,包括:包含聚碳酸酯的第一层;包含聚碳酸酯的第二层;混合在所述第一聚碳酸酯层内的防静电组合物,其中所述防静电组合物包含0.1重量%‑10重量%的至少一种由氮或磷
阳离子和弱配位氟代有机阴离子组成的离子盐,所述阴离子的共轭酸为超酸;混合在所述第二聚碳酸酯层内的激光雕刻添加剂;并且其中所述可激光雕刻膜的静电衰减时间小于30秒,并且其中所述可激光雕刻膜能够被激光雕刻成具有大于1的黑色密度。
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