[发明专利]投射光刻的投射曝光设备在审
| 申请号： | 201380032972.2 | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN104380205A | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | A.埃普尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈金林 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种投射光刻的投射曝光设备(1)，包含用于产生照明光(4)的光源(3)。照明光学单元(5)将所述光引导至物场(14)。具有带有至少一个弯曲反射镜的折反射式投射光学单元(11)将所述物场(14)中的物(7)成像至像场(14a)中的基板(13)上。物位移驱动器(7b)和基板位移驱动器(13b)位移所述物(7)和所述基板(13)。补偿装置(43，44)用于补偿所述投射光学单元(11)的像差，其由所述物(7)或所述基板(13)的弓形弯曲导致。补偿装置(43，44)包含波长操纵装置(44)，用于在投射曝光期间操纵所述照明光(4)的波长。由此产生一种投射曝光设备，其中尤其考虑场曲而优化投射光学单元的成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光刻 曝光 设备 | ||
【主权项】：
投射光刻的投射曝光设备(1)，‑具有用于产生照明光(4)的光源(3)，‑具有用于将所述照明光(4)引导至物场(14)的照明光学单元(5)，‑具有带有至少一个弯曲反射镜(M1，M2)的折反射式投射光学单元(11)，用于将布置在所述物场(14)中的物(7)成像至布置在像场(14a)中的基板(13)上，‑具有用于保持所述物(7)的物保持器(7a)，‑具有物位移驱动器(7b)，用于在所述物(7)的投射曝光期间位移所述物(7)通过所述物场(14)，‑具有用于保持所述基板(13)的基板保持器(13a)，‑具有基板位移驱动器(13b)，用于在所述投射曝光期间位移所述基板(13)通过所述像场(14a)，‑具有补偿装置(43，44)，用于补偿所述投射光学单元(11)的像差，所述像差由来自包含以下的组的场中的至少一个的曲率所导致：‑‑物场(14)，以及‑‑像场(14a)，‑其中，所述补偿装置(43，44)包含波长操纵装置(44)，用于在所述投射曝光期间操纵所述照明光(4)的波长。
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