[发明专利]形成图案的方法和用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物

摘要

所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B‑1)至(B‑3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。

主权项

1.一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：树脂(A)，所述树脂(A)包含下列通式(I)的重复单元中的任一个以及具有由下列通式(LC1‑1)、(LC1‑4)、(LC1‑5)、(LC1‑6)、(LC1‑13)、(LC1‑14)或(LC1‑17)表示的内酯结构中的任一个的重复单元，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，其中作为所述树脂(A)中的所述内酯结构，其仅为由下列通式(LC1‑1)、(LC1‑4)、(LC1‑5)、(LC1‑6)、(LC1‑13)、(LC1‑14)或(LC1‑17)表示的内酯结构中的任一个，和通过下列通式(B‑1)至(B‑3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；和用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案，在通式(I)中，R₀表示氢原子或烷基，并且R₁至R₃的每一个独立地表示烷基或环烷基，条件是R₁至R₃中的至少一个是环烷基，在以上通式(LC1‑1)、(LC1‑4)、(LC1‑5)、(LC1‑6)、(LC1‑13)、(LC1‑14)和(LC1‑17)中，Rb₂表示具有1至8个碳原子的烷基、具有4至7个碳原子的环烷基、具有1至8个碳原子的烷氧基、具有2至8个碳原子的烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基、氰基或酸可分解基团；并且n₂是0至4的整数，条件当n₂是2以上时，多个所存在的Rb₂可以彼此相同或不同，并且多个所存在的Rb₂可以彼此连接从而形成环，在通式(B‑1)中，A⁺表示锍阳离子或碘鎓阳离子，m是0或1，n是1至3的整数，X_b1表示‑O‑、‑OCO‑、‑COO‑、‑OSO₂‑或‑SO₂‑O‑，并且R_b2表示具有6个以上碳原子的取代基，在通式(B‑2)中，A⁺表示锍阳离子或碘鎓阳离子，并且Q_b1表示含有内酯结构的基团，含有磺内酯结构的基团或含有环碳酸酯结构的基团，和在通式(B‑3)中，A⁺表示锍阳离子或碘鎓阳离子，L_b2表示亚烷基，X_b2表示‑O‑、‑OCO‑或‑COO‑，并且Q_b2表示环烷基或含有芳族环的基团，并且所述树脂(A)还包含下列通式(II)的重复单元中的任一个：在通式(II)中，R₀表示氢原子或烷基，R₄表示烷基，并且Y表示与R₄所连接的碳原子形成的环状烃结构，其中基于树脂(A)的所有重复单元，树脂(A)中的通过通式(I)表示的重复单元的含量在5至35摩尔％的范围内，树脂(A)中的通过通式(II)表示的重复单元的含量在20至60摩尔％的范围内，具有由通式(LC1‑1)、(LC1‑4)、(LC1‑5)、(LC1‑6)、(LC1‑13)、(LC1‑14)或(LC1‑17)表示的内酯结构中的任一个的重复单元的含量在10至50摩尔％的范围内，并且通过通式(I)表示的重复单元与通过通式(II)表示的重复单元之间的摩尔比在12:1至1:3的范围内。