[发明专利]层压型光学片模块有效
| 申请号： | 201380033661.8 | 申请日： | 2013-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104412132A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 闵池泓;金荣一;赵诚植;李宇钟;李泰浚;金熹贞;黄俊皖 | 申请（专利权）人： | 株式会社LMS |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B5/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;杨生平 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种层压型光学片模块，该层压型光学片模块包括：上部光学片，其具有第一单元集光体不断重复的第一结构化图案，其中上述第一单元集光体形成有越往上部横截面积逐渐变小的倾斜面；以及下部光学片，其以层压形态配置于上述上部光学片的下部，具有第二单元集光体不断重复的第二结构化图案，其中第二单元集光体形成有越往上部横截面积逐渐变小的倾斜面。其中，从上述第二单元集光体的最下部至最上部的垂直距离形成为较上述第一单元集光体的最下部至最上部的垂直距离更长，且上述第二单元集光体的倾斜面具有与上述第一单元集光体的倾斜面相比相对更大的表面积。 | ||
| 搜索关键词： | 层压 光学 模块 | ||
【主权项】：
一种层压型光学片模块，其中，该层压型光学片模块包括：上部光学片，其具有第一单元集光体不断重复的第一结构化图案，其中所述第一单元集光体形成有越往上部横截面积逐渐变小的倾斜面；以及下部光学片，其以层压形态配置于所述上部光学片的下部，具有第二单元集光体不断重复的第二结构化图案，其中第二单元集光体形成有越往上部横截面积逐渐变小的倾斜面，其中，从所述第二单元集光体的最下部至最上部的垂直距离形成为较所述第一单元集光体的最下部至最上部的垂直距离更长，且所述第二单元集光体的倾斜面具有与所述第一单元集光体的倾斜面相比相对更大的表面积。
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