[发明专利]SiO2-TiO2系玻璃的制造方法、含有SiO2-TiO2系玻璃的板状构件的制造方法、制造装置以及SiO2-TiO2系玻璃的制造装置有效
申请号: | 201380034214.4 | 申请日: | 2013-06-27 |
公开(公告)号: | CN104395248B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 吉成俊雄;齐藤忠彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | C03B8/04 | 分类号: | C03B8/04;C03B11/00;C03B20/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;李文屿 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | SiO2-TiO2系玻璃的制造方法通过直接法在靶上制造SiO2-TiO2系玻璃,其包括:第一工序,预先加热靶;第二工序,使规定长度的SiO2-TiO2系玻璃坯料在被预先加热了的靶上成长;在第一工序中对靶加热,以使得在第二工序中玻璃坯料的成长面的温度维持在规定的下限温度以上。 | ||
搜索关键词: | sio sub tio 玻璃 制造 方法 含有 构件 装置 以及 | ||
【主权项】:
1.一种SiO2-TiO2系玻璃的制造方法,其通过直接法在靶上制造SiO2-TiO2系玻璃,其中,该制造方法包括:第一工序,预先加热上述靶;第二工序,使规定长度的SiO2-TiO2系玻璃坯料在被预先加热的上述靶上成长;在上述第一工序中对靶加热,以使在上述第二工序中上述玻璃坯料的成长面的温度维持在1600℃~1800℃的范围,上述靶包括圆板状的靶构件和形成于该靶构件上的SiO2玻璃层,所述靶的厚度为200mm以上,上述靶构件包括在上述第一工序中蓄积热量的蓄热部和抑制自上述蓄热部向与上述玻璃坯料相反的方向的热传导的隔热部,上述蓄热部包括板状的第1构件,上述隔热部包括板状的第2构件;上述第1构件与上述第2构件相比热容大,并且,上述第2构件与上述第1构件相比热导率小。
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