[发明专利]图案形成方法和各自使用它的电子器件制造方法和电子器件有效
| 申请号： | 201380034450.6 | 申请日： | 2013-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN104508563B | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 山中司;井口直也;上羽亮介;山本庆 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 牛海军 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 各自 使用 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，所述图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在其上形成有所述第一阴图型图案的所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案，其中所述步骤(c)为使用基于显影液的总量，有机溶剂的用量为大于或等于90质量％且小于或等于100质量％的显影液将所述已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案的步骤。
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