[发明专利]带电粒子光刻系统和射束产生器

摘要

本发明涉及一种带电粒子光刻系统。该系统具有子射束产生器，包括射束产生器，用于产生带电粒子射束；孔径阵列(6)，用于从该带电粒子射束形成多个子射束；以及子射束投射器，用于将该子射束投射在目标的表面上。带电粒子射束产生器包含带电粒子源(3)，用于产生发散的带电粒子射束；准直器系统(5a、5b、5c)，一个或多个泵(220)，高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件，避免受到高电压屏蔽配置内的高电压影响，以及冷却配置(203，204)，用于移除热量。一个或多个泵位于高电压屏蔽配置和冷却配置之间。

主权项

一种用于曝光目标(13)的带电粒子光刻系统(1)，所述系统包括：带电粒子射束产生器，用于产生带电粒子射束；孔径阵列(6)，用于从所述带电粒子射束形成多个子射束；以及子射束投射器(12)，用于将所述子射束投射于所述目标的表面上，其中，所述带电粒子射束产生器包括：带电粒子源(3)，用于产生发散的带电粒子射束；准直器系统(5a、5b、5c、5d；72；300)，用于折射所述发散的带电粒子射束；以及抽吸系统的一个或多个开口；高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件，避免受到所述高电压屏蔽配置内的高电压影响；以及冷却配置(203)，用于移除热量；其中所述一个或多个开口位于所述高电压屏蔽配置和所述冷却配置之间。