[发明专利]使用不对称嵌入式成像目标的聚焦监测方法

摘要

本发明涉及一种用于监测掩模聚焦的方法，其包含测量包含亚分辨率辅助特征的目标特征中的轮廓不对称性及基于轮廓与对应掩模的聚焦之间的已知相关导出聚焦响应。计算机系统可在光刻工艺中基于此类所导出的信息调整掩模聚焦以符合所要制造工艺。

主权项

一种用于在光刻期间监测聚焦的设备，其包括：处理器；存储器，其连接到所述处理器；以及计算机可执行程序代码，其经配置以在所述处理器上执行，其中：所述计算机可执行程序代码经配置以：接收对应于第一掩模元件的第一图像轮廓及对应于包括第一亚分辨率辅助特征的第二掩模元件的第二图像轮廓，所述第一图像轮廓与所述第二图像轮廓是不对称的；接收对应于第三掩模元件的第三图像轮廓及对应于包括第二亚分辨率辅助特征的第四掩模元件的第四图像轮廓；基于所述第一图像轮廓及所述第二图像轮廓测量由所述第一亚分辨率辅助特征导致的第一轮廓不对称性；基于所述第三图像轮廓及所述第四图像轮廓测量由所述第二亚分辨率辅助特征导致的第二轮廓不对称性；以及基于所述第一轮廓不对称性确定第一聚焦响应且基于所述第二轮廓不对称性确定第二聚焦响应。