[发明专利]氧杂环硅烷及其制备方法有效
申请号: | 201380037246.X | 申请日: | 2013-07-02 |
公开(公告)号: | CN104470935A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 托比亚斯·哈尔巴赫;于尔根·施托雷尔;伯恩哈德·里格尔;克里斯蒂安·安格尔 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;张英 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及通式(1)和(2)所示的氧杂环硅烷及其制备方法,其中,R1、R2、R1'、R2'、R3、R4、R3'、R4'、R5、R6、m、n以及n'如权利要求1中所定义的。 | ||
搜索关键词: | 氧杂环 硅烷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种通式(1)或(2)的氧杂环硅烷,其中,R1、R2、R1’以及R2’是氢、卤素、氰基、OH、或者未取代或取代的烃氧基、酰氧基、或烃基,在每种情况下具有1‑50个碳原子,在其中每一种中不相邻的碳原子可由选自N、O、P以及S的杂原子取代,其中基团R1、R2、R1’、以及R2’中的两个或三个可以相互连接,R3,R4,R3’以及R4’是未取代或取代的在每种情况下具有1‑50个碳原子的烃基,在其中每一种中不相邻的碳原子可由选自N、O、P以及S的杂原子或高分子质量基团取代,R5和R6为未取代或取代的在每种情况下具有1‑50个碳原子的烃基,在其中每一种中不相邻的碳原子可由选自N、O、P以及S的杂原子取代,m为值0或1,以及n和n’为至少1的整数值。
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