[发明专利]涂层基材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201380037800.4 申请日: 2013-08-23
公开(公告)号: CN104487525A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: X.洪;谢春平;F.孙;P.G.哈里斯;H.秦 申请(专利权)人: 美利肯公司
主分类号: C09D5/00 分类号: C09D5/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 刘蕾
地址: 美国南卡*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 新型的涂层基材,包括基材及其上的涂层。所述涂层包含聚合物组分和着色剂化合物。所述着色剂化合物通过将异氰酸酯化合物与活性氢封端的着色剂反应制备。
搜索关键词: 涂层 基材 及其 制备 方法
【主权项】:
涂层基材,包括:(a)具有至少一个表面的基材;和(b)在所述基材表面上的涂层,所述涂层包括:(i)聚合物组分,其选自预聚物、聚合物、树脂及其混合物;和(ii)着色剂化合物,所述着色剂化合物包括通过异氰酸酯化合物与活性氢封端的着色剂的反应制备的产物,其中所述活性氢封端的着色剂符合式(I)结构,其中R1或R1—[E]a是有机发色团;E是独立选自以下的连接部分:氮、氧、硫、磺酰基、磺酸酯基团、氨磺酰基团和羧基;每个R2独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;变量a是正整数;变量b和c独立选自0~2的整数;每个X是独立选自以下的端基:氢、羟基、巯基、硫醇基团、胺基团、烷基、芳基、烷基酯基团、芳基酯基团、有机磺酸酯基团、有机硫酸酯基团和酰胺基团;每个Z是独立选自以下的二甲有机分子部分:烷二基、芳二基和R5;R5是选自以下的二价取代基:(1)包括两个或更多个独立选自符合式(XX)结构的重复单元的二价取代基:其中R101和R102独立选自氢、烷基、羟烷基、芳基、烷氧基烷基和芳氧基烷基;(2)符合式(XXI)结构的二价取代基:其中R111和R112独立选自氢、羟基和C1‑C10烷基,c是1~12的整数,d是大于0的整数(例如,1~100的整数);(3)符合式(XXII)结构的二价取代基:其中R121和R122独立选自氢、羟基和C1‑C10烷基,e是1~12的整数,f是大于0的整数(例如,1~100的整数);(4)包括两个或更多个选自符合式(XX)、(XXI)或(XXII)结构的取代基的取代基的二价取代基;其中所述着色剂包含三个或更多个‑Z‑X取代基。
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