[发明专利]基板处理装置以及器件制造方法有效
申请号: | 201380038134.6 | 申请日: | 2013-05-23 |
公开(公告)号: | CN104488071B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 奈良圭 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;G02F1/13;G02F1/1333;H01L21/365;H01L21/368;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/40;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种能够将微细图案高精度地形成于基板上的基板处理装置及器件制造方法。在基板上涂敷通过光能而产生亲液/疏液性差异的功能层(偶联剂),进行光图案形成,对功能层基于亲液/疏液性赋予反差,之后,通过超声波等使包含用于电子器件等的原材料物质的溶液雾化并喷射到基板表面,由此使喷雾附着于基板表面中的表面能高的亲液部,使原材料物质选择性地沉积。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,在基板的表面形成电子器件,其特征在于,具备:功能层形成部,其在所述基板的表面形成基于感光性亲疏液偶联剂的功能层,该感光性亲疏液偶联剂在硝基苄基内包含具有疏液性的氟基,并且通过照射波长400nm以下的紫外线的光能而使所述氟基的键脱离从而亲液/疏液性改性;光图案形成部,其通过利用投影光学系统对掩膜的图案进行投影的曝光机、无掩膜曝光机及射束扫描型的描绘机中的任一种,对所述基板上的所述功能层照射被图案化后的所述紫外线的光能,形成所述功能层的所述氟基脱离的区域和留有所述氟基的区域,由此在所述功能层上形成赋予了基于亲液/疏液性的反差的图案;以及喷雾沉积部,其具备沿着规定的输送方向连续地输送由所述光图案形成部进行处理后的所述基板的输送机构、和使由所述输送机构输送的所述基板在所述输送方向上以规定的长度通过的反应室机构,该喷雾沉积部将使功能性溶液雾化得到的气体在所述反应室机构内以使该气体沿着所述基板的形成有所述功能层的表面的方式喷射,其中,该功能性溶液包含用于所述电子器件的材料物质的分子或者粒子。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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