[发明专利]液浸构件及曝光装置有效
| 申请号： | 201380038451.8 | 申请日： | 2013-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104487897B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 佐藤真路 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李景辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种液浸构件，用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；以及第1供应部及第2供应部，其能供应用于形成该液浸空间的液体，其中该第2构件具备：与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面；能与该物体相对的第2下面；以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部；其中该第2构件能在与该光学构件的光轴实质垂直的方向移动，该第2供应部能供应液体至该第1下面与该第2上面之间的第1空间。
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