[发明专利]针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料

摘要

为了针对一种用于半导体处理腔室的制品制造涂层，该制品包括Al、Al2O3或SiC中的至少一者的主体及主体上的陶瓷涂层。陶瓷涂层包括一化合物，该化合物包含自约50摩尔％至约75摩尔％范围内的Y2O3、自约10摩尔％至约30摩尔％范围内的ZrO2及自约10摩尔％至约30摩尔％范围内的Al2O3，其中每英寸节结的数目处于自约30个节结至约45个节结的范围内且孔隙率处于自约2.5％至约3.2％的范围内。

主权项

一种用于半导体处理腔室的制品，所述制品包含：Al、Al2O3或SiC中的至少一者的主体；以及所述主体上的陶瓷涂层，所述陶瓷涂层由具有环形的粒子的粉末形成，包含化合物，所述化合物包含自50摩尔％至75摩尔％的范围内的Y2O3、自10摩尔％至30摩尔％的范围内的ZrO2及自10摩尔％至30摩尔％的范围内的Al2O3，其中每英寸节结的数目在自30个节结至45个节结的范围内且孔隙率在自2.5％至3.2％的范围内。