[发明专利]用于处理基材的表面的设备和喷嘴头

摘要

本发明涉及用于处理基材(20)的表面的设备和喷嘴头。所述设备包括：基材支撑机构(2，4，12，16)，用于在处理区域(50)中将基材(20)支撑在基材支撑面(4)上；喷嘴头(6，7)，其用于使得基材(20)的表面经受至少第一前体(A)和第二前体(B)的连续表面反应；和喷嘴头支撑机构(8，11，24，26，28，29，30，32，34)，其用于将喷嘴头(6，7)支撑成与基材支撑面(4)相距预定距离(3)。喷嘴头支撑机构(8，10，11，24，26，28，29，30，32，34)包括喷嘴头支撑表面(24，25，37)，并且喷嘴头(6，7)被支撑在喷嘴头支撑表面(24，25，37)上。

主权项

一种用于处理基材(20)的表面的设备，所述设备包括：‑基材支撑机构(2，4，12，16)，所述基材支撑机构用于将所述基材(20)支撑在处理区域(50)中的基材支撑面(4)上；‑喷嘴头(6，7)，所述喷嘴头用于使所述基材(20)的所述表面经受至少第一前体(A)和第二前体(B)的连续表面反应；和‑喷嘴头支撑机构(8，11，24，26，28，29，30，32，34)，所述喷嘴头支撑机构用于将所述喷嘴头(6，7)支撑成与所述基材支撑面(4)相距预定距离(3)，所述喷嘴头(6，7)布置成在所述处理区域(50)中相对于所述基材(20)运动越过所述基材支撑面(4)，以使所述基材(20)的所述表面经受至少所述第一前体(A)和所述第二前体(B)的连续表面反应，其特征在于，所述喷嘴头支撑机构(8，10，11，24，26，28，29，30，32，34)包括喷嘴头支撑表面(24，25，37)，并且所述喷嘴头(6，7)被支撑在所述喷嘴头支撑表面(24，25，37)上，使得当所述喷嘴头(6，7)在所述处理区域(50)中相对于所述基材(20)运动时，所述基材支撑面(4)和所述喷嘴头(6，7)之间的所述预定距离(3)保持不变。