[发明专利]永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法在审
| 申请号： | 201380041388.3 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN104520768A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 赖华子;太田绘美子;村上泰治;名越俊昌;田中惠生 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;H05K3/28 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，其含有(A)酸改性含乙烯基环氧树脂、(B)光聚合引发剂和(C)氮氧自由基化合物，(C)氮氧自由基化合物包含具有特定结构的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 永久 掩模抗蚀剂用 感光性 树脂 组合 元件 抗蚀剂 图案 形成 方法 印刷 线板 制造 | ||
【主权项】：
一种永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，其含有(A)酸改性含乙烯基环氧树脂、(B)光聚合引发剂、和(C)氮氧自由基化合物，所述(C)氮氧自由基化合物包含下述通式(1)所表示的化合物，式(1)中，R1表示羟基、碳原子数1～5的烷基、乙酰胺基、氨基、氯乙酰胺基、氰基、苯甲酰氧基或者下述通式(2)所表示的基团，式(2)中，n1表示1～12的整数。
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