[发明专利]太阳能电池的制造方法、以及通过该制造方法制造了的太阳能电池有效
申请号: | 201380042132.4 | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN104521003B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 高桥光人;渡部武纪;大塚宽之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种生产率良好地形成钝化效果优良的由氮化硅构成的反射防止膜的太阳能电池的制造方法,其特征在于,使用具备成膜室(101)、具有使氨气激发的激发部(111a、112a)和对激发了的氨气导入硅烷气体而活性化的活性化反应部(111b、112b)的等离子体室(111、112)、以及针对每个等离子体室(111、112)调整氨气和硅烷气体的流量比的流量控制器(113)的远程等离子体CVD装置(100),在成膜室(101)中输送半导体基板(102)的同时,通过来自第一等离子体室(111)的等离子体流,在半导体基板(102)上形成第一氮化硅膜,接着通过来自导入了流量比与第一等离子体室(111)不同的氨气和硅烷气体的第二等离子体室(112)的等离子体流,形成组成与第一氮化硅膜不同的第二氮化硅膜。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 制造 方法 以及 通过 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池的制造方法,具有使用远程等离子体CVD装置在半导体基板表面形成由氮化硅构成的反射防止膜的工序,其特征在于,所述远程等离子体CVD装置具备:成膜室,以能够移动的方式配置半导体基板;以及多个等离子体室,在该成膜室的上方连通地设置,产生氨气的等离子体流,对该等离子体流导入硅烷气体,之后,向成膜室喷出该等离子体流,并且,所述多个等离子体室分别附设有调整被导入的氨气和硅烷气体的流量比的流量控制器,所述半导体基板通过来自第一等离子体室的等离子体流形成第一氮化硅膜,进而移动到第二等离子体室的下方,通过基于流量比与第一等离子体室不同的氨气和硅烷气体的等离子体流,形成组成与所述第一氮化硅膜不同的第二氮化硅膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的