[发明专利]离子注入装置有效
| 申请号： | 201380042607.X | 申请日： | 2013-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN104540978A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 永绳智史;后藤大辅;剑持卓 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;H05H1/46 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张斯盾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 离子注入装置具备真空腔(11)；在外周部的一部分卷绕了薄膜(3)的电极辊(13)；向电极辊施加电压的电压施加构件(23)；具有用于向真空腔内导入离子注入气体的气体吹出口的气体导入部，气体导入部和排气口在电极辊的轴方向，隔着电极辊相向地被设置。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其特征在于，具备：真空腔；在外周部的一部分卷绕了薄膜的电极辊；向该电极辊施加电压的电压施加构件；具有用于向所述真空腔内导入离子注入气体的气体吹出口的气体导入部；用于对该气体导入部以及所述真空腔内的气体进行排气的排气口，所述气体导入部和所述排气口在所述电极辊的轴方向，隔着该电极辊相向地被设置。
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