[发明专利]描绘装置、曝光描绘装置及描绘方法有效
| 申请号： | 201380042958.0 | 申请日： | 2013-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN104641300B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 菊池浩明 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 权太白,谢丽娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 取得分别表示设于基板的多个基准标记的设计上的第一位置、以第一位置为基准而确定的向基板描绘的描绘图案及多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的毎一个，将用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量设为对该基准标记的偏离校正量和最靠近该基准标记的基准标记的偏离校正量进行平均化而得的值，在以表示第二位置的坐标数据为基准而基于表示描绘图案的坐标数据将描绘图案向被曝光基板描绘的情况下，基于平均化后的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||
| 搜索关键词： | 描绘 装置 曝光 方法 存储 程序 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种描绘装置，具备：取得构件，取得表示设于被曝光基板的多个基准标记的设计上的位置即第一位置的坐标数据、表示以所述第一位置为基准而确定的向所述被曝光基板描绘的描绘图案的坐标数据及表示所述多个基准标记各自的实际的位置即第二位置的坐标数据；导出构件，对所述多个基准标记中的每一个，导出用于校正所述第一位置与所述第二位置的偏离的偏离校正量；平均化构件，将由所述导出构件导出的所述多个基准标记各自的偏离校正量设为对该基准标记的偏离校正量和最靠近该基准标记的基准标记的偏离校正量进行平均化而得的值；以及校正构件，在以表示所述第二位置的坐标数据为基准而基于表示所述描绘图案的坐标数据向所述被曝光基板描绘所述描绘图案的情况下，基于由所述平均化构件平均化后的偏离校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。
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