[发明专利]连续反应装置有效
申请号: | 201380043123.7 | 申请日: | 2013-02-25 |
公开(公告)号: | CN104582828B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 铜谷阳;后藤秀德 | 申请(专利权)人: | 月岛机械株式会社 |
主分类号: | B01J19/24 | 分类号: | B01J19/24;B01F3/08;B01F5/00;B01F5/10;C01G53/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 获得连续处理装置,其是小型的处理装置,发挥充分的处理量,而且表现出均匀的接触处理性。处理器(10)内的液流为回转流,在所述处理器(10)内的接触处理场,在比处理器(10)的内表面靠中心侧的位置注入注入液(A、B),进行接触处理。 | ||
搜索关键词: | 连续 反应 装置 | ||
【主权项】:
一种连续反应装置,其特征在于,所述连续反应装置具有:具有流入口的反应器,所述反应器具有一端部和另一端部;注入构件,其设置于所述一端部或另一端部,且所述注入构件伸入至所述反应器内的比反应器的内表面靠中心侧的位置,所述注入构件用于向该反应器内注入反应液;以及循环构件,其从所述反应器的所述另一端部抽出处理液,并将抽出的处理液的至少一部分送回到所述反应器的所述一端部,所述反应器内的液流通过所述处理液的送回而成为回转流,在比所述反应器的内表面靠中心侧的位置注入所述反应液。
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