[发明专利]衬底支承装置及曝光装置有效
| 申请号： | 201380043800.5 | 申请日： | 2013-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104583874B | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 加藤正纪;鬼头义昭;堀正和;木内彻 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/24;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 陈伟,李文屿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 设有基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 支承 装置 曝光 | ||
【主权项】：
一种衬底支承装置，对被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底进行支承，其特征在于，包括：基材，具有用于将所述衬底以弯曲状态或平坦状态进行支承的表面；膜体，形成在所述基材的表面之上，并且所述膜体相对于在所述光学处理中所使用的第一光的反射率为50％以下；和基准图案，通过微小层差形成在所述膜体的表面上，所述膜体由调整了厚度的多层膜构成，以使得所述膜体相对于用于光学检测所述基准图案的第二光的反射率大于所述膜体相对于所述第一光的反射率。
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