[发明专利]制造阻隔组件的方法无效
| 申请号： | 201380043968.6 | 申请日： | 2013-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN104822523A | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·K·纳赫蒂加尔;安德鲁·T·拉夫;克里斯托弗·S·莱昂斯;盖伊·D·乔利;约瑟夫·C·斯帕尼奥拉;马克·D·韦格尔;迈克尔·D·德尔莫尔;塞缪尔·基达内;托马斯·P·克伦 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B32B7/12 | 分类号： | B32B7/12;B32B27/34;B05D5/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开一种形成阻隔组件的方法。一些实施例包括施加粘合剂层和/或顶片，以在辊到辊处理过程中保护阻隔叠堆的暴露的最上层。一些实施例包括在阻隔膜的暴露的最上层接触固体表面或处理辊之前，施加粘合剂层和/或顶片。包含粘合剂层和/或顶片在处理过程中保护氧化物层，这产生了能够用辊到辊处理制造的优异的阻隔组件。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 阻隔 组件 方法 | ||
【主权项】：
一种形成阻隔组件的方法，包括：提供基材；邻近所述基材施加聚合物材料以形成聚合物层；邻近所述聚合物层施加含氧化物材料以形成氧化物层；将粘合剂材料和顶片层中的至少一者施加于最上层以形成多层膜；其中所述最上层是所述氧化物层或所述聚合物层；并且其中在所述最上层接触处理辊之前，将所述粘合剂材料或所述顶片层施加于所述最上层。
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