[发明专利]图案形成方法、用于制造电子器件的方法和电子器件有效
| 申请号： | 201380044148.9 | 申请日： | 2013-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN104583869B | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 涩谷明规;片冈祥平;松田知树;福原敏明;后藤研由 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供了一种图案形成方法，所述方法包括：通过使用放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物形成膜，该组合物含有：(A)在阳离子部分中含有氮原子的 |
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| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 用于 制造 电子器件 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：通过使用放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物形成膜，所述放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物含有：(A)鎓盐化合物，所述鎓盐化合物在阳离子部分中含有氮原子；(B)能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物；和(C)树脂，所述树脂能够通过酸的作用增加极性而降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，将所述膜曝光；以及通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影，以形成阴图式图案，其中所述鎓盐化合物(A)是在所述阳离子部分中具有含有氮原子的碱性部分的化合物，并且所述树脂组合物还含有疏水树脂，其中基于所述疏水树脂中的全部重复单元，所述疏水树脂中的具有氟原子或硅原子的重复单元的含量为5摩尔％以下，并且基于所述树脂组合物的总固体含量，所述疏水树脂的含量为0.1至小于10质量％。
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