[发明专利]掩模数据产生方法、执行该方法的程序和信息处理装置无效
申请号: | 201380045839.0 | 申请日: | 2013-09-03 |
公开(公告)号: | CN104641290A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 荒井祯;行田裕一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F1/70 | 分类号: | G03F1/70;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 欧阳帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种掩模数据产生方法,用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后通过使用另一掩模将曝光光照射到基板的多次曝光中使用的多个掩模的数据。该方法包含以下步骤:获得包含多个图案元素的图案的数据,确定图案元素的配置限制条件的规划,分析图案元素之间的距离,确定距离限制条件的规划,以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量并由此划分图案。 | ||
搜索关键词: | 数据 产生 方法 执行 程序 信息处理 装置 | ||
【主权项】:
一种掩模数据产生方法,用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后使用另一掩模将曝光光照射到基板上的多次曝光中使用的多个掩模的数据,其特征在于,该方法包含由计算机执行的以下步骤:获得包含多个图案元素的图案的数据,确定图案元素的配置限制条件的规划,分析图案元素之间的距离,确定距离限制条件的规划,以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量,并由此划分图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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