[发明专利]制造用于透明衬底的高度透明的氢化的碳保护涂层的方法有效
| 申请号： | 201380046056.4 | 申请日： | 2013-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN104603324B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | D·F·W·陈;D·W·布朗;C·刘;S·D·哈尼克斯四世 | 申请（专利权）人： | 因特瓦克公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 过晓东,谭邦会 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于沉积透明和清晰的氢化的碳膜例如氢化的类金刚石碳膜的物理汽相沉积(PVD)室。构建室体用于保持其中的真空条件，所述室体在其侧壁上具有窗孔。将具有孔的等离子体笼连接至该侧壁，使所述孔与窗孔重叠。使两个溅射靶位于等离子体笼内的阴极上并彼此相对地取向，将其构建为保持其间的等离子体，并将等离子体限制在等离子体笼内。笼内的等离子体从所述靶溅射材料，所述材料然后通过孔和窗孔并在衬底上着陆。在处理期间以经过式的方式不断移动衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 透明 衬底 高度 氢化 保护 涂层 方法 | ||
【主权项】：
在衬底上形成氢化碳膜的方法，其包括：提供处理室和位于处理室外部的等离子体笼；将碳溅射靶固定至等离子体笼内部的两个阴极上，使两个溅射靶彼此面对；将处理室抽空；将氩和氢的处理气体注射到等离子体笼中；通过将电力施加至两个阴极来点燃和维持等离子体，并将等离子体限制在等离子体笼内部；在处理室内部传输衬底，不对所述衬底施加任何电偏压；和提供用于使从溅射靶溅射的颗粒到达处理室内部的衬底的路径；其中将电力施加至两个阴极包括以约30‑770W每平方英寸靶的电力密度施用DC电，以便形成类金刚石涂层(DLC)的氢化的碳膜，其对可见光谱是透明的和清晰的，没有可察觉到的色调。
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