[发明专利]曝光设备

摘要

一种用于基体的曝光设备，该基体具有带彼此背对的基体基底表面的平面材料作为基体基底，并且在基体基底的每个基体基底表面上具有感光层，在该感光层中通过有选择的曝光能够触发光化学过程，并且由此能够产生有选择的结构，该曝光设备包括机架和至少一个曝光单元，为了改进该曝光设备使其可以尽可能高效地曝光带有在背对的侧上布置的敏感层的基体，建议在机架上设置基体引导部，该基体引导部使基体以其基体表面平行于曝光引导面且横向于曝光引导面限定地定位以及能沿平行于曝光引导面延展的进给方向运动地进行引导，并且为了对感光层进行曝光，在曝光引导面的两侧设置有固定地布置在机架上的曝光单元，用于分别对其中一个感光层进行有选择地曝光，并且基体能相对于曝光单元沿进给方向运动以进行曝光。

主权项

1.一种用于基体(10)的曝光设备(40)，所述基体具有带彼此背对的基体基底表面(26、28)的平面材料作为基体基底(12)，并且在所述基体基底(12)的基体基底表面中的每一个基体基底表面上都具有感光层(32、34)，在所述感光层中通过有选择的曝光能触发光化学过程，并且由此能产生有选择的结构(S)，所述曝光设备包括机架(42)和至少一个曝光单元(122、124)，其特征在于，在所述机架(42)上设置有基体引导部(60)，所述基体引导部使所述基体(10)以其基体表面(36、38)平行于曝光引导面(120)且横向于所述曝光引导面(120)限定地定位以及能沿平行于所述曝光引导面(120)延展的进给方向(84)运动地进行引导，并且为了对所述感光层(32、34)进行曝光，在所述曝光引导面(120)的两侧设置有固定地布置在所述机架(42)上的曝光单元(122、124)，用于分别对所述感光层(32、34)中的一个感光层进行有选择地曝光，并且所述基体(10)能相对于所述曝光单元(122、124)沿所述进给方向(84)运动以进行曝光，其中，通过基体引导部(60)进行所述基体(10)相对于所述曝光引导面(120)的定位，其中，所述基体引导部(60)使所述基体(10)通过如下方式限定地相对于所述曝光引导面(120)进行引导，即，使所述基体(10)容纳在两个引导板(92、94)之间，其中，对所述感光层(32、34)的曝光穿过所述引导板(92、94)进行，其中，所述引导板(92、94)至少在相应的曝光区的区域中针对为了曝光而设置的电磁辐射是可透射的，其中，所述基体(10)在曝光期间能相对于所述引导板(92、94)沿所述进给方向(84)运动以进行曝光。