[发明专利]Fe-Pt基烧结体溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201380046762.9 | 申请日： | 2013-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN104781446A | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 荻野真一 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F3/14;C22C1/05;C22C5/04;C22C38/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种烧结体溅射靶，其为含有BN的Fe-Pt基烧结体溅射靶，其特征在于，与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。本发明的课题在于提供一种溅射靶，其能够制作热辅助磁记录介质中的磁性薄膜，并且能够减少溅射时产生的粉粒。 | ||
| 搜索关键词： | fe pt 烧结 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种烧结体溅射靶，其为含有BN的Fe‑Pt基烧结体溅射靶，其特征在于，与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉坤日矿日石金属株式会社，未经吉坤日矿日石金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380046762.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：表面处理铜箔及使用其的积层板
- 下一篇：高压氢气容器用铝合金材及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类
