[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模有效
申请号: | 201380047359.8 | 申请日: | 2013-09-19 |
公开(公告)号: | CN104620176B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;B09B5/00;C03C15/00;C03C17/22;G03F1/60;G03F1/72 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理,能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 玻璃基板 再生玻璃 再生处理 基板 光掩模制造工序 光掩模坯料 图案痕迹 研磨处理 低成本 均匀化 润湿性 物理性 再利用 呼气 坯料 玻璃 再生 检查 生产 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模用玻璃基板的再生处理方法,其是在至少一面以金属薄膜形成图案而成的光掩模用玻璃基板的再生处理方法,其特征在于,利用蚀刻液将形成于所述玻璃基板的金属薄膜溶解去除后,利用含有氢氧化钾作为碱成分的碱性水溶液进行湿式润湿性均匀化处理直至在呼气像检查中不出现所述图案为止。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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