[发明专利]具有末端修饰的抗原结合分子在审
| 申请号： | 201380047512.7 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN104781277A | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | A·洛;H·艾伯斯巴赫 | 申请（专利权）人： | 诺华股份有限公司 |
| 主分类号： | C07K16/00 | 分类号： | C07K16/00;C07K16/18;A61P43/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈迎春;黄革生 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本公开涉及包含C端修饰、N端修饰或C+N端修饰的抗原结合结构域(ABD)，其中该C端修饰、N端修饰或C+N端修饰包括添加或缺失至少一个氨基酸残基，使得对ABD添加或缺失至少一个氨基酸残基消除了已存在的抗体与ABD的相互作用而不干扰ABD与其靶标的结合。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 末端 修饰 抗原 结合 分子 | ||
【主权项】：
分离的包含C端修饰的单结构域抗体，其中C端修饰包括添加或缺失至少一个氨基酸残基，使得对所述单结构域抗体添加或缺失至少一个氨基酸残基消除了至少一种已存在的抗体与所述单结构域抗体的相互作用而不干扰所述单结构域抗体与其靶标的结合。
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