[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201380047723.0 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN104641730B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 奥村智洋;川浦广 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/30 | 分类号： | H05H1/30;H01L21/20;H01L21/324 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 穆德骏,谢丽娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种等离子体处理装置以及等离子体处理方法，其能够稳定且高效地产生等离子体，并在短时间内高效地对基材的所希望的被处理区域整体进行处理。为了达成该目的，在具备开口部以外由电介质构件包围的环状腔(7)、设置于该环状腔附近的线圈(3)、和接近开口部(8)配置的基材载置台(1)的等离子体处理装置及其处理方法中，其特征在于，沿着与上述基材载置台所形成的面垂直的面来设置上述环状腔。根据该特征，能够稳定且高效地产生等离子体，并在短时间内高效地对基材的所希望的被处理区域整体进行处理。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：开口部；与所述开口部连通，且所述开口部以外被电介质构件包围的环状腔；用于向所述环状腔的内部导入气体的气体供给配管；设置于所述环状腔附近的线圈；连接于所述线圈的高频电源；和用于接近所述开口部配置基材的基材载置台，沿着与所述基材载置台所形成的面垂直的面设置所述环状腔，所述环状腔为形成一个连续闭合的绳状的长腔，所述环状腔的粗细为1mm以上、10mm以下，所述环状腔的外径为10mm以上。
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