[发明专利]光学设备、透镜、照明设备、系统和方法有效
| 申请号： | 201380049132.7 | 申请日： | 2013-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN104641265B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | W.P.A.J.米奇伊斯;S.T.德兹瓦特;M.P.C.M.克里伊恩 | 申请（专利权）人： | 飞利浦灯具控股公司 |
| 主分类号： | G02B5/04 | 分类号： | G02B5/04;G02B27/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 孙之刚,景军平 |
| 地址： | 荷兰埃*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学设备包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面，每一个刻面具有相应取向。所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴。多个微小尺寸刻面包括形成刻面的子集的有意义的图案。所述子集具有选自以下中的至少一个特征与相邻刻面的相等取向（倾斜和方位）、类似颜色、类似标记（刮痕、磨砂、有棱纹）、类似间隔。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 透镜 照明设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面的光学设备，所述微小尺寸刻面具有大于等于25μm并且小于250μm的尺寸，每一个刻面具有相应取向，所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴，其特征在于其包括形成多个刻面（15）中的刻面（16）的子集的有意义的图案（55），子集的所有刻面相互至少具有与相邻刻面的基本上相等的取向、类似的颜色、类似的标记表面、或者类似的间隔，有意义的图案被提供在光学设备的第一表面（25）上。
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