[发明专利]光学设备、透镜、照明设备、系统和方法有效
申请号: | 201380049162.8 | 申请日: | 2013-09-12 |
公开(公告)号: | CN104641167B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | M.P.C.M.克里伊恩;S.T.德兹瓦特;W.P.A.J.米奇伊尔斯 | 申请(专利权)人: | 飞利浦灯具控股公司 |
主分类号: | G02B5/04 | 分类号: | G02B5/04;G02B27/09;G02B27/12;F21V5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙之刚;景军平 |
地址: | 荷兰埃*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 光学设备包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面,每一个刻面具有相应取向。所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴。多个刻面包括至少第一和第二刻面组,每一个组由至少二十五个紧凑布置的邻近刻面中的相应数目个形成。每一个组被布置成在操作期间生成相应相互相同的整个图案。相应组中的每一个刻面被布置成显示所述相应整个图案的子图案。整个图案相互叠加。 | ||
搜索关键词: | 光学 设备 透镜 照明设备 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包括至少一个光源(3)和至少一个光学设备(13)的照明设备(1),光学设备(13)包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面,所述微小尺寸刻面具有在25μm至250μm之间的尺寸,每一个刻面具有相应取向并且相邻刻面表面的取向不同,所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴,多个刻面包括至少第一和第二刻面组的平铺式阵列,每一个组由至少二十五个紧凑布置的邻近刻面中的相应数目个形成,其特征在于在操作期间照明设备将光束发出到光学设备上,每一个刻面组被布置成构成相应相互相同的要显示的整个图案,相应刻面组中的每一个刻面被布置成重定向入射在所述相应刻面上的光束的子射束以由此形成所述相应整个图案的子图案,所述子图案与被来自相同刻面组的其它刻面照射的子图案不重叠,并且相应整个图案相互叠加。
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