[发明专利]照明设备、透镜、系统和方法有效
| 申请号： | 201380049230.0 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN104641168B | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | W.P.A.J.米奇尔斯;S.T.德兹瓦特;M.P.C.M.克里恩 | 申请（专利权）人： | 飞利浦灯具控股公司 |
| 主分类号： | F21V5/00 | 分类号： | F21V5/00;G02B5/04;G02B27/09;G02B27/12;F21S41/00;F21S41/275 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 初媛媛;景军平 |
| 地址： | 荷兰埃*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 包括至少4个光学设备的照明设备。每个光学设备具有相关联的光源并且包括具有多个微小尺寸的刻面的第一表面。每个刻面具有相应的取向，并且所述多个刻面具有平行于所有所述相应的取向的平均取向的法线矢量延伸的光轴。光学设备被分成超过至少2个光学设备的集合，所述光学设备的集合被设计成在操作期间相互发出不同的图案，因为不同集合的光学设备以相互交替的方式被布置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学设备 取向 照明设备 集合 刻面 透镜 操作期间 第一表面 法线矢量 交替的 光轴 光源 平行 关联 图案 延伸 | ||
【主权项】：
1.包括至少4个光学设备的照明设备（1），每个光学设备具有相关联的光源，并且每个光学设备包括具有多个微小尺寸的刻面的第一表面，所述刻面具有25μm到250μm之间的尺寸，每个刻面具有相应的取向，所述多个刻面具有平行于所有所述相应的取向的平均取向的法线矢量延伸的光轴，其特征在于所述光学设备被分成超过至少2个光学设备的集合，其中所述光学设备的集合由于其相应的取向而沿着相应的光轴对来自相关联的光源的光线进行重定向以在操作期间相互发出不同的图案，并且其中以相互交替方式布置不同集合的光学设备，并且其中对于所有的光学设备，相邻光学设备的取向是不同的。
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