[发明专利]等离子体增强化学气相沉积设备

摘要

公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备。该等离子体增强化学气相沉积设备包括一对被布置为面对彼此的磁场生成单元，两者之间具有间隙；一对对立电极，其被布置为在该对磁场生成单元之间面对彼此；气体供给单元，其被配置为将反应气体供给到该对对立电极之间的空间内；以及前驱物供给单元，其被配置为将前驱物供给到对对立电极之间的空间内。对立磁场可以被形成在该对磁场生成单元之间。

主权项

一种等离子体增强化学气相沉积设备，其用于在真空腔室中的涂布靶的表面上沉积薄膜，所述设备包括：一对磁场生成单元，其被布置为面对彼此，两者之间具有间隙；一对对立电极，其被布置为在所述对磁场生成单元之间面对彼此；气体供给单元，其被配置为将反应气体供给到所述成对的对立电极之间的空间内；前驱物供给单元，其被配置为将前驱物供给到所述成对的对立电极之间的空间内；以及中央磁场生成单元，其位于所述成对的对立电极之间，其中对立磁场被形成在所述对磁场生成单元之间，以及所述中央磁场生成单元被配置为在其本身与所述对磁场生成单元的每一个之间形成磁场。