[发明专利]合成具有“面条状”形态的立方介孔二氧化硅的组合物和方法有效
申请号: | 201380050633.7 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN104854029B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | D·阿克莱卡;P·K·博拉普拉咖达 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术有限公司 |
主分类号: | C01B37/02 | 分类号: | C01B37/02 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所11494 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 具有实质上圆柱形形态的立方介孔二氧化硅可以在实质上不存在醇溶剂的情况下使用下列各物的组合来制备第一结构导向模板,如氢氧化四甲基铵;水;第二结构导向模板,如溴化十六烷基三甲基铵;形态导向模板,如重量平均分子量在5,000到20,000道尔顿范围内的泊洛沙姆;以及二氧化硅来源。所得物质可以呈现三维通道结构,长度为3到10微米并且宽度为300纳米到10微米,从而得到纵横比为1到300。其它特征可以包括表面积为1300到1500平方米/克,平均值孔径为20到26埃,并且平均孔隙体积在0.7到1.1立方厘米/克的范围内。这些物质适用于多种用途中的分子传递以及释放应用,包括例如膜分离、金属并入、电子装置、药物传递以及吸收。 | ||
搜索关键词: | 合成 具有 条状 形态 立方 二氧化硅 组合 方法 | ||
【主权项】:
一种组合物,其包含介孔二氧化硅,所述介孔二氧化硅具有如国际沸石协会(International Zeolite Association)所定义的MCM‑48框架型三维通道结构,并且具有3微米到10微米范围内的长度和300纳米到10微米范围内的宽度作为其它特性,其限制条件为长度与宽度的比率的特征为1到300范围内的纵横比并且形态为实质上圆柱形的;并且进一步具有1300平方米/克到1500平方米/克的布鲁诺尔‑艾米特‑泰勒表面积(Brunauer‑Emmett‑Teller surface area)、20埃到26埃的平均孔径以及0.7立方厘米/克到1.1立方厘米/克范围内的平均孔隙体积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏环球技术有限公司,未经陶氏环球技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380050633.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光纤制造方法和光纤
- 下一篇:使用离子迁移膜共同制备氧气、氢气和氮气的方法