[发明专利]形成金属纳米线或金属纳米网的方法有效
| 申请号： | 201380051331.1 | 申请日： | 2013-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN104718154A | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | 韩阳奎;李济权;李显振;金鲁马;尹圣琇;申恩知 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学;汉阳大学校产学协力团 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B22F9/18;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;蔡胜有 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及形成金属纳米线或金属纳米网的方法。更具体地，本发明涉及形成金属纳米线或金属纳米网的方法，其能够通过更简化的方法将各种金属纳米线或金属纳米网形成期望的形状。所述形成金属纳米线或金属纳米网的方法包括以下步骤：在基底上形成嵌段共聚物薄膜，该嵌段共聚物包括预定的硬链段以及含有一种或更多种选自以下的聚合物重复单元的软链段：基于聚(甲基)丙烯酸酯、基于聚环氧烷、基于聚乙烯基吡啶、基于聚苯乙烯、基于聚二烯及基于聚内酯的重复单元；将嵌段共聚物薄膜中的所述硬链段和软链段排列为层状或柱形；选择性除去所述软链段；在所述硬链段上吸附金属前体；以及除去所述硬链段。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 金属 纳米 方法 | ||
【主权项】：
一种形成金属纳米线或金属纳米网的方法，包括以下步骤：在基底上形成嵌段共聚物薄膜，其中所述嵌段共聚物薄膜包括含有以下化学式1的重复单元的硬链段，以及含有一种或更多种选自以下的聚合物重复单元的软链段：基于聚(甲基)丙烯酸酯的重复单元、基于聚环氧烷的重复单元、基于聚乙烯基吡啶的重复单元、基于聚苯乙烯的重复单元、基于聚二烯的重复单元和基于聚内酯的重复单元；使所述嵌段共聚物薄膜中的所述硬链段和软链段取向为层状或柱形；选择性除去所述软链段；在所述硬链段上吸附金属前体；以及除去所述硬链段；在化学式1中，n为5至600的整数，R为氢或甲基，R’为X、或者X为‑Z‑R”，Y为具有1至10个碳原子的亚烷基，Z为具有6至20个碳原子的亚芳基；R”为具有10至20个碳原子的直链或支化的烃基或具有10至20个碳原子的直链或支化的全氟代烃基；在化学式2中，m为30至1000的整数，R1为氢或甲基，R2为具有1至20个碳原子的烷基。
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