[发明专利]苛刻环境的光学元件保护有效
| 申请号： | 201380051709.8 | 申请日： | 2013-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN104838729B | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | A·I·叶尔绍夫;N·R·鲍尔林;B·拉方丹;S·德地 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于保护光学元件，特别是反射性光学元件免于在苛刻环境(例如，EUV光源的真空室内的环境)中使它们光学性质劣化的光学元件保护系统。系统包括在各层中使用材料的组合，其中对材料进行选择并对层进行配置和布置，以延长光学元件的寿命而不损害其光学性质。 | ||
| 搜索关键词： | 苛刻 环境 光学 元件 保护 | ||
【主权项】：
一种用于反射远紫外辐射的光学元件，所述光学元件包括：至少两种介电材料的交替层的堆叠；以及布置在所述堆叠的最外层上的保护层，其中，所述保护层包含Al2O3。
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