[发明专利]防伪结构体及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201380051760.9 申请日: 2013-11-14
公开(公告)号: CN104704401A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 屋铺一寻 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;B42D25/30;B42D25/328;B42D25/40;G02B5/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 防伪结构体(10)具备具有第一区域(13)和第二区域(14)的微细凹凸形成层(11),第一区域(13)具有含有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,第二区域(14)具有含有深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件。第一区域(13)具有比第二区域(14)更高的透光率。防伪结构体(10)还进一步具备填充于第一区域(13)所含的凹凸结构的凹部中的微粒(15)和配置于第二区域(14)所含的凹凸结构上的反射层(12)。
搜索关键词: 防伪 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种防伪结构体,其具备:微细凹凸形成层,该微细凹凸形成层具备第一区域和第二区域,所述第一区域具有含有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,所述第二区域具有含有深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件,所述第一区域具有比所述第二区域更高的透光率;填充于所述第一区域所含的所述凹凸结构的凹部中的微粒;以及配置在所述第二区域所含的所述凹凸结构上的反射层。
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