[发明专利]层积体、阻气膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201380053425.2 | 申请日： | 2013-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN104736334A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 佐藤尽;加纳满 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C16/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;张苏娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种层积体(1)，其具有：基材(2)，在所述基材(2)的外面的至少一部分上形成、含有具有官能团的有机高分子、且以膜或薄膜形状形成的底涂层(3)，以及含有成为原料的前体(6)、以覆盖所述底涂层(3)的表面的方式形成、且所述前体(6)的至少一部分键合于所述官能团的原子层沉积膜(4)，其中，具有所述基材(2)和所述底涂层(3)的层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10-5/K以上8.0×10-5/K以下。 | ||
| 搜索关键词： | 层积 阻气膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种层积体，其包括：基材，底涂层，其在所述基材的外面的至少一部分上形成，含有具有官能团的有机高分子，且形成为膜或薄膜形状，以及原子层沉积膜，其含有成为原料的前体，并且以覆盖所述底涂层的表面的方式形成，所述前体的至少一部分键合于所述官能团，其中，包括所述基材和所述底涂层的层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10‑5/K以上8.0×10‑5/K以下。
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